K&F Concept Nano-C HMC UV filter - 52 mm

Informācija par preci

K&F Concept Nano-C HMC UV Filter - 52 mmThe K&F Concept Nano-C HMC UV filter ir neaizstājams fotogrāfiem, piedāvājot aizsardzību un uzlabojot fotoattēlu kvalitāti. Filtrs ir aprīkots ar cieto daudzslāņu pārklājumu (HMC) un Japāņu optisko stiklu, lai samazinātu atspulgu un spīdumu, uzlabojot kontrastu un skaidrību. Ultra plānais 3,3 mm rāmis novērš vinjetēšanos, un tas tiek piegādāts ar aizsargapvalku transportēšanai.Galvenās īpašībasSaderīgs ar 52 mm vītniAizsargā objektīvu no putekļiem, netīrumiem un pirkstspēriena nospiedumiemSamazina UV gaismas efektus, lai uzlabotu fotoattēlu kvalitātiIdeāli piemērots ainavu fotogrāfijaiIzgatavots no augstas kvalitātes Japāņu optiskā stikla18 slāņu HMC pārklājumsUltra plāns rāmis, lai novērstu vinjetēšanosIekļauts aizsargapvalksObjektīva aizsardzībaFiltrs aizsargā objektīvu no pirkstspēriena nospiedumiem, putekļiem, skrāpējumiem un mehāniskiem bojājumiem, uzlabojot tā ilgmūžību un veiktspēju.UV starojuma aizsardzībaKalpo kā barjera pret UV starojumu, uzlabojot attēla skaidrību, samazinot miglu un nevēlamus gaismas efektus.HMC pārklājumsDaudzslāņu pārklājums samazina atspulgas, spīdumu un atmosfēriskās miglas efektus, uzlabojot kontrastu un skaidrību attēlos.Japānas kvalitāteIzgatavots no Japāņu optiskā stikla, nodrošinot izcilu gaismas pārsūtīšanu un izturību, garantējot augstas kvalitātes fotoattēlus.Ultra plāns profils3,3 mm plānais rāmis novērš vinjetēšanos, saglabājot skaidrību attēlos ar garajiem telefoto objektīviem.SaderībaSaderīgs ar objektīviem ar 52 mm filtra uzstādīšanas vītni.SpecifikācijasFiltra tips UVPārklājums Cieto daudzslāņu (18 slāņi)Biezums 3,3 mmDiametrs 52 mmKomplektācija Filtrs, Aizsargapvalks